電子廠潔凈室的除塵率要求主要取決于其潔凈度等級(如百級、千級、萬級、十萬級等)，而不同等級對空氣中顆粒物的容許濃度有嚴格規定。以下是關鍵標準及要求：
 

　　1. 潔凈度等級與顆粒物限制
 

　　- 百級潔凈室：每立方米空氣中≥0.5μm的粒子數≤3,500個，≥5μm的粒子數≤293個。
 

　　- 千級潔凈室：≥0.5μm的粒子數≤35,200個/m³，≥5μm的粒子數≤2,930個/m³。
 

　　- 萬級潔凈室：≥0.5μm的粒子數≤352,000個/m³，≥5μm的粒子數≤2,930個/m³。
 

　　- 十萬級潔凈室：≥0.5μm的粒子數≤3,500,000個/m³，≥5μm的粒子數≤20,000個/m³。
 

　　2. 除塵率要求
 

　　- 高效過濾器(HEPA/ULPA)：
 

　　潔凈室通常要求末端過濾器對≥0.3μm顆粒的過濾效率≥99.97%(HEPA)或≥99.999%(ULPA)，具體選擇取決于潔凈度等級。
 

　　- 整體系統效率：
 

　　通過初效、中效、高效三級過濾組合，綜合除塵率需確保達到對應潔凈度等級的顆粒物限值。例如，十萬級潔凈室的送風系統需將初始空氣中的顆粒物濃度降低至標準值的1/10,000以下。
 

　　3. 其他影響因素
 

　　- 氣流組織：單向流(層流)潔凈室的除塵效率高于非單向流(亂流)，需通過合理的氣流設計減少死角。
 

　　- 正壓控制：潔凈區與非潔凈區的壓差需≥10Pa，防止外部污染物進入。
 

　　- 靜電控制：電子廠潔凈室需維持濕度40%-60%，以減少靜電吸附顆粒。
 

　　4. 實際應用建議
 

　　- 對于高精密電子制造(如半導體)，通常要求千級或更高潔凈度，除塵率需接近100%。
 

　　- 動態環境下(如人員操作時)，需通過增加換氣次數(如十萬級換氣15-20次/小時)維持除塵效果。
 

　　總結
 

　　電子廠潔凈室的除塵率并非固定百分比，而是通過過濾系統、氣流設計和環境控制共同實現對應潔凈度等級的顆粒物限值。具體需根據生產工藝要求(如集成電路制程需百級，普通封裝可接受萬級)選擇匹配的凈化方案。